第 1 條 
本標(biāo)準(zhǔn)依空氣污染防制法第二十條第二項(xiàng)、第二十二條第二項(xiàng)、第三項(xiàng)及第二十三條第二項(xiàng)規(guī)定訂定之。 
第 2 條 
本標(biāo)準(zhǔn)專有名詞及符號定義如下： 
一、揮發(fā)性有機(jī)物 (Volatile Organic Compounds, VOCs) ：指含有機(jī)化合物之空氣污染物總稱。但不包括甲烷、一氧化碳、二氧化碳、碳酸、碳化物、碳酸鹽、碳酸銨等化合物。 
二、石化制程：指以化學(xué)或物理操作產(chǎn)制各類石油產(chǎn)品、石化基本原料、石化中間產(chǎn)品或石化產(chǎn)品之制造程序，包括產(chǎn)制各類有機(jī)化學(xué)品、樹脂、塑膠、橡膠及合成纖維原料等產(chǎn)品。 
三、揮發(fā)性有機(jī)液體：指含揮發(fā)性有機(jī)物成份占重量百分比一○以上之液體。 四、密閉排氣系統(tǒng) (Closed Vent System) ：指可將設(shè)備或制程設(shè)備元件排出或逸散出之揮發(fā)性有機(jī)物，捕集并輸送至污染防制設(shè)備，使傳送之氣體不直接與大氣接觸之系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括管線及連接裝置。 
五、污染防制設(shè)備：指處理廢氣之熱焚化爐、觸媒焚化爐、鍋爐或加熱等密閉式焚化設(shè)施、冷凝器、吸附裝置、吸收塔、廢氣燃燒塔或其他經(jīng)主管機(jī)關(guān)認(rèn)定者。 
六、制程回收系統(tǒng)：指用以回收制程排出物中有機(jī)物成分之一個或數(shù)個回收設(shè)備之組合，屬原制程中考量經(jīng)濟(jì)因素，欲達(dá)設(shè)計產(chǎn)能*之設(shè)備。 
七、非破壞性物料回收處理方式：指制程回收系統(tǒng)以外所額外加裝之污染防制設(shè)備，具有回收物料之功能，以減少因破壞性燃燒生成額外之空氣污染物。 
八、標(biāo)準(zhǔn)操作溫度：指焚化設(shè)施于焚化廢氣后符合規(guī)定排放濃度值或達(dá)排放削減率之操作條件下，其溫度監(jiān)測設(shè)施量測之平均溫度。 
九、廢氣燃燒塔：指煉油廠及石化廠中一種開放式燃燒裝置，該裝置包括具支撐結(jié)構(gòu)之塔身、燃燒嘴、母火裝置 (Pilot)、輔助燃料系統(tǒng)、點(diǎn)火裝置及其他附屬設(shè)施?？煞譃楦呒軓U氣燃燒塔及地面廢氣燃燒塔。 
十、蒸氣輔助燃燒型式廢氣燃燒塔：指焰頂處使用蒸氣噴嘴將蒸氣噴入火焰中，藉以增加焰頂處空氣紊流效應(yīng)，促使燃燒更*之廢氣燃燒塔。

十一、空氣輔助燃燒型式廢氣燃燒塔：指焰頂處使用強(qiáng)制送風(fēng)方式將空氣噴入火焰中，藉以增加焰頂處空氣紊流效應(yīng)，促使燃燒更*之廢氣燃燒塔。 
十二、批次操作：指不連續(xù)操作，即系統(tǒng)之進(jìn)料與出料不在相同時間發(fā)生，當(dāng)所有進(jìn)料反應(yīng)完成后，才進(jìn)行出料之操作。 
十三、空氣氧化單元：指一種或多種有機(jī)物與空氣或空氣與氧氣之混合氣體，經(jīng)由氧化反應(yīng)、氧氯化反應(yīng)或氨氧化反應(yīng)生成一種或多種有機(jī)產(chǎn)物、中間產(chǎn)物之制程單元。 
十四、蒸餾操作單元：指藉氣液相平衡原理分離進(jìn)料中不同沸點(diǎn)揮發(fā)性有機(jī)物成分之制程單元。 
十五、其他石化制程單元：指空氣氧化單元及蒸餾操作單元以外之石化制程單元。 十六、固定式頂蓋 (Fixed Roof) ：指以固定方式裝設(shè)于儲槽上之頂蓋，不隨液面高低升降者。 
十七、浮動式頂蓋 (Floating Roof)：指以浮動方式裝設(shè)于儲槽上之頂蓋，且該頂蓋系直接與液體表面接觸并隨液面高低升降，為浮筒式 (Pontoon-type) 或雙板層式 (Double-deck-type) 頂蓋，簡稱浮頂。 
十八、非接觸式內(nèi)浮頂蓋 (Noncontact Internal Floating Roof)：指浮頂之板層 (Deck) 位于浮筒上而使板層高于液面數(shù)英寸者。 
十九、固定頂槽 (Fixed Roof Tank)：指儲槽之頂蓋為固定式，且無另設(shè)浮頂者。 二十、外浮頂槽 (External Floating Roof Tank)：指儲槽之頂蓋為浮動式，且其上方無另設(shè)固定式頂蓋者。 
二十一、內(nèi)浮頂槽 (Internal Floating Roof Tank)：指儲槽頂蓋為浮動式，其上方并具有固定式頂蓋者。 
二十二、封氣設(shè)備 (Closure Devices)：指浮頂邊緣與儲槽內(nèi)壁間之密封裝置 (Seal) 。 
二十三、液態(tài)鑲嵌式密封 (Liquid-Mounted Seal)：指以泡棉或液體充填之密封彈性體與儲存物料液面接觸之封氣裝置。 
二十四、雙封式密封 (Two Seals)：指浮頂邊緣與儲槽內(nèi)壁間裝設(shè)二層封氣設(shè)備者。密封在下之層稱為初級密封，密封在上之層稱為二級密封。 
二十五、機(jī)械式鞋形密封 (Mechanical Shoe Seal) ：指以一金屬薄板，藉彈簧及重杠桿使金屬薄板垂直緊抵于儲槽之槽體壁板上，金屬薄板另一端則以曲柄 (Braces) 連接者，屬封氣設(shè)備之一種。 
二十六、浮頂負(fù)載支架 (Roof Supporting Leg)：指設(shè)于浮頂之浮筒及平臺處之浮頂支持腳，其功能系為保持浮頂與槽底間之距離，以保護(hù)槽體壁板下部與槽底之零件與設(shè)備，并提供內(nèi)部檢驗(yàn)及清洗之活動空間者。

二十七、支架襯套 (Leg Sleeve) ：指浮頂負(fù)載支架與浮頂接合部份。 
二十八、自動泄氣閥 (Automatic Bleeder Vent) ：指當(dāng)浮頂下降至接近槽底時，受浮頂負(fù)載支架撐開，或當(dāng)浮頂浮降中關(guān)閉，但浮頂不浮降時則可開啟以排氣之閥。 
二十九、邊緣通氣孔 (Rim Space Vent) ：指供排放浮頂下累積于浮頂邊緣之積存空氣與未凝結(jié)蒸氣之通氣孔。 
三十、支柱井 (Column Well)：指內(nèi)浮頂槽內(nèi)用以支撐固定頂之垂直支柱，與內(nèi)浮頂之接合部份。 
三十一、樓梯井 (Ladder Well)：指自固定頂之人孔延伸至槽底之梯子，其于浮頂上之開孔。 
三十二、取樣井 (Sampling Well)：指浮頂上供采集儲存物料樣品之開孔。 三十三、計量井 (utomatic Gauge Float Well)：指液位計浮標(biāo)于浮頂上之開孔。 三十四、壓力槽：指內(nèi)部壓力大于七七三 mmHg 以上且無自由管道與大氣連通使其操作時無任何揮發(fā)性有機(jī)物排放之儲槽。 
三十五、縫隙寬度：指浮頂邊緣與儲槽內(nèi)壁間之水平寬度。 
三十六、裝載操作 (Loading)：指將儲存于儲槽中之揮發(fā)性有機(jī)液體經(jīng)裝載操作設(shè)施導(dǎo)入槽車、油罐火車或油輪之操作。 
三十七、裝載操作循環(huán) (Loading Cycle)：指物料自開始裝載入槽車、油罐火車或油輪至物料停止裝載后其置換出之蒸氣停止逸出為止。 
三十八、裝載操作設(shè)施 (Loading Rack) ：指裝載操作涵蓋之相關(guān)設(shè)施，包括灌裝臂(Loading Arm)、泵浦、流量計、關(guān)斷閥、釋壓閥、管線、蒸氣收集系統(tǒng)及其他相關(guān)閥件等。 
三十九、蒸氣收集系統(tǒng) (Vapor Collection System)：指裝載操作時用以收集被置換出之揮發(fā)性有機(jī)氣體的設(shè)備。 
四十、輕質(zhì)液：指在制程操作條件下制程流體為液態(tài)，且該制程流體于二○℃時含蒸氣壓二．二五 mmHg 以上之揮發(fā)性有機(jī)物成分占其重量百分比二○以上者。 
四十一、重質(zhì)液：指輕質(zhì)液以外之揮發(fā)性有機(jī)液體。 
四十二、真空設(shè)備元件：指該設(shè)備元件于操作時，其所承受之壓力在七二二．五 mmHg 以下者。 
四十三、難以檢測之設(shè)備元件 (Inaccessible Component) ：指不易以檢測儀器進(jìn)行一般性量測之設(shè)備元件，包括被檢測之設(shè)備元件在檢測時有安全顧慮或設(shè)備元件所在位置高于人員可站立處二公尺以上者。

四十四、開口閥 (Open-ended Valve) ：指閥座一側(cè)接觸制程流體，另一側(cè)接觸大氣之閥。但不包括釋壓裝置。 
四十五、線上取樣分析系統(tǒng)：指該取樣系統(tǒng)非以人工抽取式操作而系采管線上自動采樣之儀器分析系統(tǒng)。 
四十六、初檢測值：指檢測某設(shè)備元件逸散之揮發(fā)性有機(jī)物原始讀值。 
四十七、背景濃度值：指偵測儀器在欲檢測之設(shè)備元件上風(fēng)位置一公尺至二公尺處，隨機(jī)所量得之揮發(fā)性有機(jī)物儀器讀值，若該量測位置有遭受其他鄰近設(shè)備元件干擾時，其距離不得少于二十五公分。 
四十八、凈檢測值：指初檢測值減去背景濃度值之凈值。 
四十九、未可檢出定義值：指設(shè)備元件之凈檢測值為一○○ ppm。但壓縮機(jī)之凈檢測值為五○○ ppm。 
五十、泄漏定義值：指設(shè)備元件之凈檢測值二、○○○ ppm 以上。但壓縮機(jī)之凈檢測值為五、○○○ ppm。 
五十一、泄漏源：指設(shè)備元件凈檢測值超過泄漏定義值者、目視發(fā)現(xiàn)制程流體自設(shè)備元件處滴漏、止漏流體軸封系統(tǒng)失效或設(shè)備元件應(yīng)符合未可檢出定義值而未符合者，該類設(shè)備元件均謂之泄漏源。 
五十二、泄漏比例：指制程內(nèi)某類設(shè)備元件流經(jīng)氣體、輕質(zhì)液或重質(zhì)液制程流體之泄漏源個數(shù)，占該類元件檢測總個數(shù)之比例。 
五十三、E ：經(jīng)制程回收系統(tǒng)后，進(jìn)入污染防制設(shè)備前之揮發(fā)性有機(jī)物質(zhì)量流率，單位為 kg/hr 。 
五十四、Eo：經(jīng)污染防制設(shè)備處理后逕排大氣之揮發(fā)性有機(jī)物質(zhì)量流率，單位為kg/hr。 
五十五、R ：揮發(fā)性有機(jī)物排放削減率，單位為％。計算公式如下： E-Eo 
R＝───×100％ E 
五十六、C ：揮發(fā)性有機(jī)物排放濃度，系以凱氏溫度二七三度及一大氣壓下未經(jīng)稀釋之干燥排氣體積為計算基準(zhǔn)，單位為 ppm，以甲烷表示。 
五十七、MJ：百萬焦耳。 
五十八、HT：設(shè)計條件下導(dǎo)入之廢氣 (Flare Gas) 總凈熱值，單位為 M J/Nm3 。計算公式如下： 
HT = 1.87 × 10-7 CiHi

Ci：設(shè)計條件下導(dǎo)入之廢氣成分濕基排放濃度，單位為 ppm，以甲烷表示。 Hi：設(shè)計條件下導(dǎo)入之廢氣成分在凱氏溫度二七三度 (273K) 、一大氣壓下、一克莫耳凈燃燒熱值，單位為 kcal/g-mole，以甲烷焓值表示。 
五十九、V ：以設(shè)計條件下導(dǎo)入之廢氣排氣流量 (單位為 Nm3 /sec) 除以廢氣燃燒塔頂端截面積 (單位為 m2) 所得之排放速度，單位為 m/sec。